Màquina de recobriment per polverització de magnetrón al buit

Vacuum Magnetron Sputtering Coating Machine
Vacuum Magnetron Sputtering Coating Machine
Vacuum Magnetron Sputtering Coating Machine
Vacuum Magnetron Sputtering Coating Machine

Màquina de recobriment per polverització de magnetrón al buit

Enviar la consulta

Xateja ara

Introducció al producte

Màquina de recobriment per polverització de magnetrón al buit

Especificació

TOB-1100X-SPC-16M magnetron sputtering coater utilitza l'efecte de sputtering produït pel bombardeig de partícules del material objectiu en un entorn de buit, que fa que els àtoms o molècules del material objectiu surtin de la superfície sòlida, i el procés de formació d'una pel·lícula fina es diposita sobre el substrat. Pertany a la preparació física de deposició de vapor (PVD) de la tecnologia de pel·lícula fina. TOB-1100X-SPC-16M magnetron sputter coater es pot utilitzar per a la preparació de mostres de microscopi electrònic d'escaneig al laboratori, i la mida compacta de l'equip estalvia espai al laboratori; el funcionament és senzill i adequat per a principiants.

Característiques

Està equipat amb un mesurador de buit i un mesurador de corrent de pulverització, que pot controlar l'estat de treball en temps real.
Mitjançant l'ajust del controlador de corrent de pulverització i la vàlvula de gas de micro buit, controla la pressió de la cambra de buit, el corrent d'ionització i selecciona el gas d'ionització necessari per obtenir el millor efecte de recobriment.
L'anell de segellat de goma a la vora de la carcassa de la campana està especialment dissenyat per garantir que la carcassa de la campana de vidre no s'espatllarà durant un ús a llarg termini.
Els accessoris d'elèctrodes d'alta tensió segellats amb ceràmica són més duradors que els segells de goma que s'utilitzen normalment.
D'acord amb les característiques d'ionització del gas en el camp elèctric, s'utilitzen una cambra de buit de gran capacitat i una àrea corresponent de l'objectiu de pulverització per fer que la capa de pulverització sigui més uniforme i pura.
El capçal de pulverització utilitza la tecnologia de refrigeració Peltier per obtenir recobriments de partícules fines d'alt rendiment.
Hi ha disponibles capçals de pulverització refrigerats per aigua i taules portadores refrigerades per aigua.

nom del producte	Màquina de recobriment per polverització de magnetrón al buit
Model de producte	TOB-1100X-SPC-16M
Condició d'instal·lació	Aquest equip s'ha d'utilitzar a una altitud de 1000 m o menys, a una temperatura de 25 graus ±15 graus i una humitat del 55%Rh±10%Rh. 1. aigua: l'equip ha d'estar equipat amb una màquina d'aigua de refrigeració autocirculant opcional (omplint aigua pura o aigua desionitzada) 2. electricitat: AC220V 50Hz, ha de tenir una bona connexió a terra 3. gas: la cambra de l'equip s'ha d'omplir d'argó (puresa del 99,99% o més), cal proporcionar el seu propi cilindre de gas d'argó (amb vàlvula reductora de pressió) 4. Taula de treball: mida 600mm×600mm×700mm, amb càrrega de 50kg o més. 5. Dispositiu de ventilació: no és necessari
Paràmetre principal	1. Objectiu: Ø50mm
	2. Cambra de buit: Ø160mm×120mm
	3. grau de buit: Menor o igual a 4×10-2mbar
	4, corrent màxim: 50 mA (100 mA opcional)
	5. Es pot establir un temps límit: 9999 s
	6. Microvàlvula de buit: connectar mànega de Ø3mm
	7. tensió límit: 1600V DC
	8. bomba mecànica: 2L/s
	9. Material objectiu: Requisit de mida: φ50mm×(0.1-0.5)mm (gruix) Adequat per polveritzar Au, Ag, Cu i altres metalls (disponible a la nostra empresa)
	10. Mida: 360mm×300mm×380mm Pes total: 50 kg, Pes net: 15 kg